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Principles of Plasma Discharges and Materials Processing/

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Detalles Bibliográficos
Autor Principal:	Lieberman, Michael A.
Outros autores:	Lichtenberg, Allan J.
Formato:	Libro
Idioma:	inglés
Publicado:	Hoboken, N.J.: Wiley-Interscience, c2005.
Edición:	2nd ed.
Subjects:	Plasma dynamics Plasma etching Semiconductors > Etching
Tags:	Engadir etiqueta Sen Etiquetas, Sexa o primeiro en etiquetar este rexistro!

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